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它等于1m长，横截面积为1mm2的导线两端间的电阻。也可用一个单位立方体的两平行端面间的电阻表示。电阻温度系数p1/℃温度每升降1℃，材料电阻的改变量与原电阻率之比，称为电阻温度系数。电导率kS/m或%IACS电阻率的倒数叫电导率。 在数值上它等于导体维持单位电位梯度时，流过单位面积的电流。4磁性能磁导率H/m是衡量磁性材料磁化难易程度的性能指标，它是磁性材料中的磁感应强度和磁场强度的比值。磁性材料通常分为：软磁材料（值甚高，可达数万）和硬磁材料（值在1左右）两大类。 磁感应强度BT在磁介质中的磁化，可以看作在原先的磁场强度上再加上一个由磁化强度所决定的，数量等于4J的新磁场，因而在磁介质中的磁场B=H+4J的新磁场，叫做磁感应强度。磁场强度HA/m导体中通过电流，其周围就产生磁场。
膜内部电子环境考虑：
阳离子空位：P型半导体如FeO，Fe3O4膜
阴离子空位：N型半导体如Fe2O3膜
过程解释：氧化过程的主要是氧离子和铁离子(合金元素形成的离子)在氧化层中的扩散，同时也是电子传导过程。这个氧化腐蚀的过程，本质上也是一个电化学腐蚀过程。这也是不锈钢和耐热钢在理论上的共同基础。
实际工件表面的氧化层，还有以下性质：
①通过对氧化物体积和被氧化物体积的比较，判断氧化膜是否覆盖工件表面;
例：V(FeO)：V(Fe)=1.77;V(Fe3O4)：V(Fe)=2.09
V(Fe2O3)：V(Fe)=2.14
判定：大于1说明可以覆盖表面，考虑体积，比值，层与层的应力，可以推断出容易起皮。
②生成的氧化物结晶结构和致密性;
③和基体金属的结合。
阳离子空位：P型半导体如FeO，Fe3O4膜
阴离子空位：N型半导体如Fe2O3膜
过程解释：氧化过程的主要是氧离子和铁离子(合金元素形成的离子)在氧化层中的扩散，同时也是电子传导过程。这个氧化腐蚀的过程，本质上也是一个电化学腐蚀过程。这也是不锈钢和耐热钢在理论上的共同基础。
实际工件表面的氧化层，还有以下性质：
①通过对氧化物体积和被氧化物体积的比较，判断氧化膜是否覆盖工件表面;
例：V(FeO)：V(Fe)=1.77;V(Fe3O4)：V(Fe)=2.09
V(Fe2O3)：V(Fe)=2.14
判定：大于1说明可以覆盖表面，考虑体积，比值，层与层的应力，可以推断出容易起皮。
②生成的氧化物结晶结构和致密性;
③和基体金属的结合。
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