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光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物，而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁，即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时，燃烧生成产物中HCl或SO2，需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
吸附脱附催化燃烧设备有文献表明，催化燃烧装置催化焚烧时的“燃气/空气比值”范围一般在4%～11%之间；在必定的焚烧条件之下，燃/空比为6%时，天然气就能完成较好的催化焚烧作用，焚烧体系就可以得到热效率，一起又能取得较好的排放作用。 吸附脱附催化燃烧设备 焚烧器温度调理可以通过文本显示器的键盘输入，改动变频器的输出频率，调理恰当的风量。当风量增大，焚烧温度超越设定值，则PLc操控变频器降低输出频率，减少出风量来安稳焚烧器的温度。若变频器输出频率低于设定值(风机出风量频率，设为5 Hz)，而出风量仍高于设定值时，PLc开端计时，若在必定时刻内，降低到设定值，PLc抛弃计时，持续变频调速运转；若在必定时刻内温度仍高于设定，PLc将持续调理，直至到达设定值。由PLc经PID运算后操控变频器的频率输出；如温度不行，则频率上升，延时坚持必定时刻。反之亦然。 化燃烧装置可以说是一种较为常见的通过催化反应（无明火）处理有机污染物的方法，具有适用范围广，结构简单，净化速率高，节能、无二次污染等优点，催化燃烧废气处理，为了避免催化剂床层的堵塞和催化剂中毒，废气在进入床层之前需要进行预处理，以除去废气中的粉尘、液滴及催化剂的毒物。希望大家在选购时选购一款比较适合自己的废气处理设备。
催化燃烧废气处理设备。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔，被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化，其他情况下需要作相应的工艺调整。 催化燃烧废气处理设备 根据状态、温度和离子密度，等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体（包子体和冷等离子体）。其中高温等离子体的电离度接近1，各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态，它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和中性粒子的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。
把有机废气加热升温至800℃，使废气中的VOC氧化分解，成为无害的CO2和H2O；氧化时的高温气体的热量被蓄热体“贮存”起来，用于预热新进入的有机废气，从而节省升温所需要的燃料消耗，降低运行成本。有机废气经高压引风机进入蓄热室的保留了上一循环热量的陶瓷介质层后，陶瓷释放热量，温度降低，而有机废气吸收热量，温度升高。废气离开蓄热室后，以较高的温度进入燃烧室，准备进行氧化。 在燃烧室中，有机废气再由燃烧器加热燃烧，加热升温至设定的氧化温度，此时温度为设定的800℃，使有机物被分解成二氧化碳和水。由于废气已在蓄热室内进行过预热，燃烧器的燃料用量大为减少。废气流经蓄热室升温后进入氧化室焚烧，成为净化后的高温气体后离开氧化室，进入在上一循环已冷却的蓄热室。在此气体释放热量，降温后排出，而蓄热室吸收大量热量后升温，其吸收的热量用于下一个循环加热废气。在此同时，废气引风机经由反吹风管，从蓄热室抽出少许前一循环残留在其中的微量有机气体，回送至废气风机进口处，再送入燃烧室中进行焚烧，此部分气体同处理后气体一起离开蓄热室，经热回收设备排入大气。 是目前成熟、稳定、有效的有机废气处理设备，采用提高前辈的热交换技术和新型蜂窝陶瓷蓄热材料，提高前辈的换热系统保证了氧化分解热量的有效回收，热回收率95%以上，VOC净化率99%以上，在有机废气净化领域具有很大的技术上风。