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OC废气处理设备从理论上讲，只要半导体吸收的光能不小于其带隙能，就足以激发产生电子和空穴，该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点，具体研究中可根据需要选用，如CdS半导体带隙能较小，跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，Ti02的综合性能较好，是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。

沸石转轮加催化燃烧装置 吸附脱附催化燃烧设计原理*、用材独特，性能稳定，结构简便，可靠，节能省力，无二次污染。设备占地面积小，重量轻。吸附床采用抽屉式结构，装填方便，便于更换， 自动控制系统的信号检测器设置于出气口处，对出气口的废气浓度进行自动检测，并将浓度数据传输给PLC控制器，PLC控制器根据传输数据发出控制指令，控制进气口上的进气阀门和催化燃烧进气阀门的自动开启、闭合，通过对活性炭吸附层的实时脱附实现活性炭吸附层的连续净化。为保证生产的连续运行，设有两套吸附脱附装置交替使用。 针对催化燃烧废气特点，首*行分类收集，先用设备对工艺产生的烟气进行处理，在多功能塔内对废气进行喷淋吸收，废气除味剂、吸收液、化工废气除臭剂与其进行充分反应，对VOCs气体进行一定的分解处理，在末端尾气处理器上，用有机废气催化剂进行光解催化氧化反应，对化工臭气进行催化裂解处理，对苯类尾气进行冷凝回收，整个除臭装置工艺设计合理，废气治理设施运行记录标明，净化效率一直保持在99%以上。对环境的污染治理有很大的帮助！

活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍，阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风，其方向不受场地条件限制可任意摆放，抽风机和设备对接极易，排放管可直接固定于设备上，系统整齐合理, 废气的产生部位比较多，并且分散在车间中，因此在处理废气之前必须先把废气收集起来，所以需要集气系统对其进行收集后统一进行处理, 在车间机器产生废气的具体部位加上密闭系统，然后安装相对应的管道，利用风机作用将废气抽出；另外，一方面在车间四周的地面部位安装一定量的鼓风机，将车间内散布的废气由下而上鼓气，另一方面在车间顶部安装抽风机，使抽气量大于鼓风量，从而车间内产生一定的低负压，保证了车间内废气不会像外扩散。抽出的废气统一由管道外送进行处理。